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上海微电子中标长江存储光刻机！其他国产设备如何？
光刻机种类繁多，用途各异，以光刻机为代表的产品主要应用于四大领域：芯片制造、芯片先进封装、LED制造、下一代显示屏制造。
其中用于芯片先进封装的后道光刻机、LED制造、下一代显示屏制造，技术难度较低，我国已经可以实现国产化量产，比如上海微电子的后道光刻机，上海微电子中标长江存储的光刻机，是主要用于芯片封装的后道光刻设备。
但是在芯片产业链中，属于重中之重的前道光刻设备，我们还落后世界先进水平很多，上海微电子的前道设备目前只能实现90nm工艺制程，主要面向低端前道光刻机市场，当前上微的主要任务是：向可以完成28nm制程的193纳米ArF浸没式DUV光刻机，发起最后的国产化冲击。
光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设备中投资额中，单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业***上的明珠。
可以说，年产值几百亿美元的半导体设备支撑了年产值几千亿美元的半导体制造产业，而ASML几乎主导了整个高端光刻机设备市场。
除了目前可供台积电三星完成3nm 制程的EUV 光刻机，目前ASML的新一代极紫光刻机也正在商业化中。
台积电和三星电子从7纳米开始在一部分工程中导入了NA=0.33的EUV曝光设备，并且逐步在5纳米工艺中导入，据说，2纳米以后的超微缩工艺需要更高解析度的曝光设备、更高的NA化（NA=0.55）。ASML目前已经完成了高NA EUV曝光设备的基本设计（即NXE：5000系列），预计在2022年前后实现量产。
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